优尔鸿信检测实验室配备有场发射扫描电镜、钨丝灯扫描电镜、FIB聚合离子束、工业CT等用于电子和半导体行业检测设备，可开展电子元器件和半导体芯片质量检测与失效分析服务。
应用领域：扫描电镜广泛应用于金属材料、涂层、半导体、生物医学等领域的表面和界面研究。

透射电镜（Transmission Electron Microscope，TEM）

透射电镜是一种高分辨率的电子显微镜，主要用于分析固体样品的晶体结构、原子尺寸、化学键等方面的信息。透射电镜的工作原理是利用从样品中反射回来的电子成像，通过调节电子束的方向、电压和电流来控制成像效果。透射电镜的优点是可以观察到纳米级别的结构，分辨率高，但缺点是不能对样品进行非接触式的形貌观察。

基本原理
场发射扫描电镜利用场发射电子产生高能量的电子束，当电子束与样品相互作用时，会产生二次电子、背散射电子等信号。二次电子主要来自样品表面浅层，对样品表面形貌敏感，可用于观察样品的表面细节；背散射电子则与样品原子序数有关，通过分析背散射电子的信号可以了解样品表面不同区域的成分差异。
场发射扫描电镜性能特点
高分辨率：可达到纳米甚至亚纳米级的分辨率，能够清晰地观察到样品表面的微观结构和细节。
高放大倍数：放大倍数通常在 10-100 万倍之间连续可调，可根据需要选择合适的放大倍数观察样品。
良好的景深：可以获得具有立体感的样品表面图像，对于观察粗糙或不规则的样品表面有利。
多功能性：除了观察形貌外，还可配备能谱仪、电子背散射衍射仪等附件，进行元素分析、晶体结构分析等。
低电压成像能力：在低加速电压下也能获得量的图像，可用于观察对电子束敏感的样品。
场发射电镜应用领域
材料科学领域
材料微观结构研究：分析金属、陶瓷、高分子等材料的晶粒尺寸、形状、分布及晶界特征等，如研究纳米金属材料的晶粒大小和生长形态，帮助优化材料的制备工艺，提高材料性能。
材料表面形貌观察：观察材料在制备、加工或使用过程中的表面形貌变化，如金属材料的磨损表面、腐蚀表面，了解材料的损伤机制，为材料的防护和使用寿命预测提供依据。
复合材料界面分析：观察复合材料中不同相之间的界面结合情况，如碳纤维增强树脂基复合材料中碳纤维与树脂的界面结合状态，为提高复合材料的性能提供指导。
半导体行业
半导体器件制造与检测：在半导体芯片制造过程中，用于观察光刻图案的精度、刻蚀效果、薄膜的均匀性等，如检测芯片表面的光刻线条是否清晰、有无缺陷，及时发现制造过程中的问题，提高芯片的良品率。
半导体材料研究：分析半导体材料的晶体结构、缺陷分布、杂质沉淀等，如研究硅材料中的位错、杂质团簇等缺陷对半导体性能的影响，为半导体材料的研发和质量控制提供重要信息。
地质与矿物学领域
矿物形貌与结构分析：观察矿物的晶体形态、解理、断口等特征，如石英、长石等常见矿物的晶体形貌，为矿物的鉴定和分类提供依据。
岩石微观结构研究：分析岩石的孔隙结构、矿物颗粒的排列方式、胶结物的形态等，了解岩石的物理性质和力学性能，为石油勘探、地质工程等提供基础数据。
纳米科技领域
纳米材料制备与表征：用于观察纳米材料的尺寸、形状、分散性等，如碳纳米管的管径、长度、管壁结构，以及纳米颗粒的粒径分布和团聚状态等，指导纳米材料的合成和制备工艺优化。
纳米器件研究：观察纳米器件的结构和性能，如纳米传感器、纳米电子器件等的微观结构和界面特性，为纳米器件的设计和性能改进提供依据。
注意事项
样品要求：样品必须是干燥的固体，且无挥发性、无磁性、无腐蚀性、性、无放射性。对于块状样品，尺寸不能太大；粉状样品需适量且要固定好，防止飞扬。
操作规范：操作过程中要严格按照仪器操作手册进行，避免误操作。在更换样品、调节参数等操作时，要小心谨慎，防止碰撞样品台和探测器。
安全事项：场发射扫描电镜内部有高压和高真空系统，在仪器运行过程中，严禁打开舱门或触摸内部部件，以免发生触电或其他安全事故。
环境要求：仪器应放置在温度和湿度相对稳定、无振动、无强电磁场干扰的环境中。
数据管理：未经授权，不得随意或修改仪器中的数据。如需拷贝数据，应使用*的存储设备，并遵守实验室的数据管理规定。
扫描电镜是微观形貌和成分分析设备，放大倍率可以从几倍到百万倍连续可调，从坚硬的金属到柔软的生物组织，从固体到液体样品，扫描电镜均能分析。常用于观察纳米材料结构、断面失效分析、金相组织观察、清洁度滤膜颗粒分析、PCBA检测等
http://cdfoxconn.cn.b2b168.com