优尔鸿信，多年从事电子产品及半导体检测服务，机构的电子元件检测实验室配备有FIB聚焦离子束、扫描电镜、工业CT、超声波C-SAM等**设备，可提供电子产品、电子元器件、半导体零件的质量检测及失效分析。
透射电镜和扫描电镜都是电镜的一种，它们在结构和原理上有很大的区别。下面我会分别介绍这两种电镜的特点和应用领域。

透射电镜是一种高分辨率的电子显微镜，主要用于分析固体样品的晶体结构、原子尺寸、化学键等方面的信息。透射电镜的工作原理是利用从样品中反射回来的电子成像，通过调节电子束的方向、电压和电流来控制成像效果。透射电镜的优点是可以观察到纳米级别的结构，分辨率高，但缺点是不能对样品进行非接触式的形貌观察。

扫描电镜测试的运用：
SEM形貌观察：
观察纳米材料的结构、颗粒尺寸、分布、均匀度及团聚情况；
观察高分子材料的粒、块、纤维、膜片及其制品的微观形貌，以及异常分析；
观察金属材料的微观组织，如马氏体、奥氏体、珠光体、铁素体等；
分析金属材料表面的磨损、腐蚀和镀层厚度等；
观察断口形貌，揭示断裂机理，如疲劳断裂等；
分析陶瓷材料的原料、成品的显微结构及缺陷，观察晶相、晶体大小、杂质、气孔及孔隙分布等
观察生物细胞、组织，如膜结构、细胞质和细胞器等。
结合切片技术，分析PCB板IMC厚度、锡须观察等
EDS成分分析：
分析纳米材料的微区成分，确定其组成；
测定微量颗粒成分，如异物成分分析；
结合切片技术，测试金属镀层成分；
清洁度滤膜颗粒成分分析等

场发射扫描电镜是一种高分辨率、稳定性好、功能多样的电子显微镜，在材料科学、生物医学、地质学等多个领域都有广泛的应用。
扫描电镜测试用途
扫描电镜形貌分析SEM
扫描电镜SEM是一种利用高能电子束扫描样品表面，并通过检测电子与样品相互作用产生的信号来获得样品表面微观结构的成像工具。其主要特点在于分辨率，通常在亚微米至纳米级范围内，可以清晰呈现细小结构，如细胞、纳米颗粒、金属晶粒等。
SEM的成像是通过电子束与样品表面的相互作用实现的。电子束与样品表面原子碰撞后，会产生二次电子、背散射电子等信号。这些信号被探测器捕捉并转化为电信号，再经过放大和处理，终在显示屏上形成样品的微观图像。
SEM的应用广泛，包括材料科学、冶金、生物学、医学、半导体材料与器件、地质勘探等多个领域。它可以用于观察样品的表面形貌、断口分析、微区成分分析等。
扫描电镜能谱分析SEM+EDS
扫描电镜能谱分析是一种利用能谱仪测量样品中不同元素特征能量，以确定样品中元素种类和相对含量的分析方法。它通常与SEM结合使用，形成SEM-EDS系统。
在SEM-EDS测试中，电子束与样品表面相互作用产生的特征X射线被能谱仪捕捉。这些特征X射线具有特定的能量，对应于样品中的不同元素。通过测量这些特征X射线的能量和强度，可以确定样品中存在的元素种类和相对含量。
能谱分析主要包括定性分析、定量分析和空间分布分析。定性分析是通过识别能谱图中的峰值来确定样品中存在的元素；定量分析是根据能谱图中各个峰的强度来计算元素的质量或原子百分比；空间分布分析则可以揭示样品中元素的分布特征和微观结构。
扫描电镜的测试项目涵盖了从形貌观察到成分分析、从微观结构到三维重建的多种功能，广泛应用于材料科学、生物学、地质学、纳米技术等领域。根据具体需求，可以选择合适的测试项目进行分析。
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